领科元素(山东)技术有限公司

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    制造商

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    2024

  • 主     营:

    一般项目:信息系统集成服务;技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广;金属制品研发;新材料技术研发;新材料技术推广服务;高性能有色金属及合金材料销售;金属材料销售;稀土功能材料销售;锻件及粉末冶金制品销售;电子专用材料研发;电子专用材料销售;专用化学产品销售(不含危险化学品);化工产品销售(不含许可类化工产品);电子专用材料制造;3D打印基础材料销售;新型金属功能材料销售;冶金专用设备销售;非金属矿及制品销售;新型陶瓷材料销售;高纯元素及化合物销售;石墨及碳素制品销售;金银制品

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铁粉末 99.9纯度 高纯铁 科研用 Fe粉
1、China New metal(CNM)高纯铁(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铁碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用于制药、颜料
2026-09-16
碲粉末 4N纯度 Ti粉 科研用
1、China New metal(CNM)高纯碲(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯碲碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用于半导体器件
2026-09-16
铝粉 高纯铝 Al粉末 99.99%纯度 科研用
1、China New metal(CNM)高纯铝(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铝碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用来冶炼,其质
2026-09-16
铜粉末 高纯铜 99.90%纯度 科研用 Cu粉
1、China New Metal(CNM)高纯铜(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铜碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用于电气、轻工
2026-09-16
氧化钆粉末 99.99%纯度 科研用 Gd2O3
1、高纯氧化钆(镀膜材料,颗粒状,片状,粉末)加工工艺流程原料提 纯检测加工成型热 处 理选用进口或国产高纯氧化钆CVD,湿法提纯,THM等。碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。球磨,造粒, 压片,制粉。热压烧结,真空烧结等。分 筛成品检测合格包装出库交付客户超声波振动筛成品外观,纯度,粒度。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用作钇铝和钇铁石榴石掺入剂、医疗器械中的增感荧光材料、核反应堆控制材料、金属钆的制取
2026-09-16
高纯钽 4N纯度 科研专用 Ta靶材
适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域:生产及科研方面应用,光学,微纳加工,器件等行业,广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
2026-09-16
高纯铁 99.95%纯度 科研专用 Fe靶材
适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域:生产及科研方面应用,光学,微纳加工,器件等行业,广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
2026-09-16
高纯锡 99.999%纯度 科研专用 Sn靶材
适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域:生产及科研方面应用,光学,微纳加工,器件等行业,广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。
2026-09-16
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